Efectos de radiación en dispositivos de memoria (Lab6&7 / Licenciatura)
Director: Dr. Carlos Acha (acha@df.uba.ar)
Las observaciones de conmutación resistiva inducida por pulsos eléctricos en diversas interfaces metal-óxido a temperatura ambiente crearon una gran atención en los últimos años por su potencial aplicación para construir una nueva generación de memorias no volátiles de estado sólido (llamadas memristores), gracias a su menor consumo de energía, su capacidad de fusionar localmente elementos tanto lógicos como de almacenamiento de un estado y, principalmente, la posibilidad de reducir su
Dado que el estado resistivo de los dispositivos denominados bipolares despende de una región relativamente extensa y cercana a la interfaz, es de esperar que los efectos de la radiación ionizante sobre el funcionamiento de los dispositivos no sean tan extrema como lo es sobre los dispositivos flash, donde la generación de defectos, en las capas aislantes, termina destruyendo la capacidad de guardad información.
En este trabajo, se buscará poner en evidencia los efectos producidos por la generación de defectos por irradiación en junturas metal-óxido crecidas en películas delgadas. Para ello se realizarán caracterizaciones de la memoria no-volátil en estas junturas antes y después de generar defectos puntuales y columnares mediante irradiación. (En colaboración con CNEA). Se estudiará en detalle los mecanismos de conducción dominantes, en se buscará determinar cuáles son los cambios microscópicos ligados al transporte electrónico que produce la radiación aplicada.